小型真空鍍膜機(jī)是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶(hù)群體設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無(wú)油高真空系統(tǒng)，機(jī)架電控一體化設(shè)計(jì)，整體布局緊湊合理，充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益彰。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所教學(xué)、制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽(yáng)能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。
小型真空鍍膜機(jī)主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì)：
★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察；
★ 復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵，大抽速準(zhǔn)無(wú)油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S)；
★ 兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì)；
★ 專(zhuān)業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可鍍110mm方形基片或15～25mm ITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 良好的薄膜均勻性和重復(fù)性，可在線監(jiān)測(cè)和控制蒸發(fā)速率、膜厚；
★ 可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小(0.92平米)；設(shè)備配腳輪，方便移動(dòng)和定位。
產(chǎn)品型號(hào)：
點(diǎn)擊交流